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光譜橢偏儀UVISEL

產(chǎn)品大圖
  • 光譜橢偏儀UVISEL
  • HORIBA堀場(chǎng)
  • UVISEL
  • 日本
  • 電議
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹

 

概要

紫外域~近赤外域まで対応のR&D向け高精度分光エリプソメーター

先端研究の薄膜?表面?界面の特性評(píng)価のために、UVISELシリーズは、モジュール式と性能面でベストな組み合わせを提供します。UVISELシリーズは、位相変調(diào)技術(shù)に基づき、紫外域190nmから近赤外域2100nmまでの広範(fàn)囲な波長(zhǎng)域をカバーしており、高精度?高分解能測(cè)定?素晴らしいS/N比で、全波長(zhǎng)域に渡って高品質(zhì)な測(cè)定データを採(cǎi)取することができます。

UVISELLシリーズは、機(jī)械的な動(dòng)作無(wú)く、高周波(50kHz)にて偏光変化を採(cǎi)取するための位相変調(diào)技術(shù)を組み込んでいます。その特徴的な技術(shù)によって、以下の特長(zhǎng)が得られます:

  • (Ψ、Δ)のすべての値のための高精度測(cè)定
  • 紫外域190nmから近赤外域2100nmまでの素晴らしいS/N比
  • 約60ms/ポイントと非常に速いデータ取得速度
    ~kinetic測(cè)定やIn-Situ測(cè)定へ最適~

位相変調(diào)技術(shù)を有するU(xiǎn)VISELLシリーズは、回転機(jī)構(gòu)を有する従來のエリプソメーターと比べると、薄膜を評(píng)価するために、より高感度、より高精度の測(cè)定を?qū)g現(xiàn)します。このことは、30μmまでの厚膜層や他のどんなエリプソメーターでもみることのできない薄膜や界面層の検出を可能とします。

UVISELはフレキシブルな構(gòu)成で、製品特長(zhǎng)に記載の波長(zhǎng)域が対応可能で、自動(dòng)化機(jī)能とアクセサリーは、ユーザの実験や研究へ対する様々な要求へ合うような能力を有しています。

UVISELLシリーズは、HORIBA Jobin Yvon社のすべての薄膜計(jì)測(cè)ツールに共通のプラットホームであるDeltaPsi2ソフトウェアによって制御されており、DeltaPsi2ソフトウェアはルーチンや先端研究の薄膜アプリケーションの両方を扱うための自動(dòng)測(cè)定やモデル?パッケージの機(jī)能を有しています。

半導(dǎo)體、ディスプレイ、太陽(yáng)光発電、光學(xué)コーティング、光エレクトロニクス、バイオおよび化學(xué)などの各分野のアプリケーションにおける、研究、産業(yè)、およびQC分析の要求に対して、UVISELシリーズは薄膜構(gòu)造の高精度な評(píng)価法としてベストな解決法を提供します。

特長(zhǎng)

  • UVISEL
    波長(zhǎng)範(fàn)囲:210-880nm

    一般的な膜厚測(cè)定にご使用いただける標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)範(fàn)囲を有したモデル。將來的に近赤外域への拡張が可能。
  • UVISEL NIR
    波長(zhǎng)範(fàn)囲:260-2100nm

    UVISELモデルよりも高分解能を有する分光器を有し、紫外域~近赤外域までの連続測(cè)定を?qū)g現(xiàn)したモデル。
    検出波長(zhǎng)域の異なる2種類の高感度検出器を搭載(測(cè)定中は自動(dòng)切換)。ナローバンドギャップ材料の評(píng)価や
    超厚膜測(cè)定などに最適。
  • UVISEL FUV
    波長(zhǎng)範(fàn)囲:190-880nm

    高度な光學(xué)設(shè)計(jì)により、素晴らしいS/N比のまま190nmまでの紫外域へ拡張したモデル。將來的に近赤外域へ
    の拡張が可能。SAM膜のような超薄膜測(cè)定などに最適。
  • UVISEL ER
    波長(zhǎng)範(fàn)囲:190-2100nm

    UVISEL FUVモデルに近赤外域を拡張し、UVISELシリーズの中で最も広い波長(zhǎng)範(fàn)囲で素晴らしいS/N比を?qū)g現(xiàn)
    したモデル。あらゆる応用分野に最適。

波長(zhǎng)範(fàn)囲

仕様

 

UVISEL

UVISEL
NIR

UVISEL
FUV

UVISEL
ER

スペクトル域

標(biāo)準(zhǔn):210?880 nm

 

 

 

NIR:260?2100 nm

 

 

 

FUV:190?880 nm

 

 

 

ER:190?2100 nm

 

 

 

機(jī)械部品および光學(xué)部品

光源

75W
Xe-ランプ

 

 

150W
Xe-ランプ

 

 

サンプル
ステージ

手動(dòng)
(標(biāo)準(zhǔn)仕様)

〈仕様〉
150mmウェハ対応、XY軸は固定、水平姿勢(shì)により安全操作と簡(jiǎn)単測(cè)定が可能.
〈位置合わせ〉
高さ(20mm)、傾斜、θの手動(dòng)調(diào)節(jié)、真空ラインとの接続、オートコリメーションシステム

XY電動(dòng)
(オプション)

〈仕様〉
可動(dòng)範(fàn)囲:200×200mmまたは300×300mm、水平姿勢(shì)により安全操作と簡(jiǎn)単測(cè)定が可能、特注により大型基板用ステージも対応可能.
〈位置合わせ〉
傾斜と高さは4mmまで調(diào)節(jié)可能、真空ラインとの接続、オートコリメーションシステム、CCDカメラのオプションあり

ゴニオ
メータ

固定
(標(biāo)準(zhǔn)仕様)

入射角度が55°?75°において5°刻みで設(shè)定

電動(dòng)
(オプション)

入射角度が40°?90°において0.01°刻みで自動(dòng)調(diào)節(jié)可能

電源
(全機(jī)種共通)

AC100V±5%、50/60Hz±1Hz、1.5kVA以下、3端子コンセント2口以上

排気
(全機(jī)種共通)

ダクト徑:Ø100mm、流量:約30m3/h、用途:光源熱排気用

窒素ガス
(FUV、ERタイプ)

流量:4?6L/min(圧力50kPa以上)、配管徑:外形6mm(Ø6mm/4mm配管)
用途:光源パージ用

外形寸法:質(zhì)量
(UVISELおよびUVISEL FUVタイプ)

本體部:1800(W)×750(D)×1550mm(H)、200kg
PCラック:670(W)×690(D)×1450mm(H)、80kg

標(biāo)準(zhǔn)付屬品

PC、モニタ、プリンタ、PCラック、設(shè)置臺(tái)、トランス、定電圧電源

※真空紫外域(142nm?)対応モデルもございます。

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