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UV光清洗、改質(zhì)“專家”SEN——UV工業(yè)“匠人”

?什么是光的表面處理技術(shù)?

不使用摩擦、藥物等物理處理方式,使用電子線、放射線、紫外線等高能量進(jìn)行表面處理的一項技術(shù)。
紫外光表面清洗技術(shù)在國際上是隨著光電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展而提出來的。七十年代中期美國軍事電子技術(shù)和器件實驗室應(yīng)用紫外光照射清洗石英晶片取得滿意的效果。但是,美國在較長的時間里紫外光表面清洗技術(shù)主要在軍事領(lǐng)域中進(jìn)行研究性應(yīng)用。直到九十年代初,日本和美國先后將UV光清洗機(jī)應(yīng)用于民用光電子產(chǎn)品的工業(yè)生產(chǎn)過程,并開始向我國個別外資LCD企業(yè)在要求技術(shù)保密的情況下提供UV光清洗機(jī)。隨后,日本在發(fā)展紫外光表面清洗技術(shù)的同時,紫外光表面改質(zhì)技術(shù)也得到了發(fā)展。
在二十世紀(jì)末,日本等先進(jìn)工業(yè)國家紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)由信息產(chǎn)業(yè)逐步擴(kuò)展到金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)過程。二十世紀(jì)九十年代后期,我國的信息技術(shù)和產(chǎn)業(yè)以驚人的速度飛速發(fā)展,特別是平板顯示技術(shù)的高速發(fā)展,LCD顯示屏由TN級向STN和TFT不斷提升,新型的OLED顯示產(chǎn)品也開始進(jìn)入市場。由此,對制備工藝過程表面質(zhì)量要求越來越嚴(yán)格,紫外光表面清洗技術(shù)的優(yōu)越性已經(jīng)得到廣泛認(rèn)可,UV光清洗機(jī)的需求量正在不斷增長。
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UV臭氧法
VUV低壓紫外汞燈能同時發(fā)射波長254nm和 185nm的紫外光,這兩種 波長的光子能量可以直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價鍵,使有機(jī)物分子活化,分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。與此同時,185nm波長紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O2)分解成臭氧(O3);而254nm波長的紫外光的光能量能將O3分解成O2和活性氧(O),這個光敏氧化反應(yīng)過程是連續(xù)進(jìn)行的,在這兩種短波紫外光的照射下,臭氧會不斷的生成和分解,活性氧原子就會不斷的生成,而且越來越多,由于活性氧原子(O)有強(qiáng)烈的氧化作用,與活化了的有機(jī)物(即碳?xì)浠衔铮┓肿影l(fā)生氧化反應(yīng),生成揮發(fā)性氣體(如CO2,CO,H2O,NO等)逸出物體表面,從而徹底清除了粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。
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